典型文献
Ti、V、Ni、Mo对CVD金刚石涂层形核影响
文献摘要：
基于密度泛函理论,计算分析了CH3基团在含有过渡金属元素Ti、V、Ni、Mo的孕镶金刚石颗粒硬质合金基底表面的吸附能、Mulliken电荷分布、电荷密度差和态密度(density of states,DOS)等一系列性质,研究Ti、V、Ni、Mo对孕镶金刚石颗粒硬质合金基底化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)金刚石涂层形核阶段的影响及其作用机理.计算结果表明:与CH3基团在WC表面及金刚石表面的吸附相比,Ti、V、Ni、Mo与C原子间有较强的弱相互作用,这使得其对CH3基团有更强的吸附能力(其中Ti>V>Mo>Ni);吸附能力大小与各原子的价电子结构相关,含有Ti元素的表面对CH3的吸附最稳定;CH3基团与Ni原子间更易发生电荷的转移形成共价键,Mo有利于促进CH3基团的脱氢反应;形核阶段适当添加Ti、V、Ni、Mo这几种过渡金属元素将有利于增加形核密度,改善CVD金刚石膜基界面结合强度.
文献关键词：
金刚石涂层;过渡金属;吸附;第一性原理计算;形核密度;化学气相沉积
中图分类号：
作者姓名：
简小刚;彭薪颖;杨天;胡吉博;尹明睿
作者机构：
同济大学机械与能源工程学院,上海 201804
文献出处：
引用格式：
[1]简小刚;彭薪颖;杨天;胡吉博;尹明睿-.Ti、V、Ni、Mo对CVD金刚石涂层形核影响)[J].人工晶体学报,2022(05):933-940
A类：
B类：
Ti,Mo,CVD,金刚石涂层,基于密度,密度泛函理论,CH3,基团,过渡金属元素,镶金,金刚石颗粒,硬质合金,Mulliken,电荷分布,电荷密度,密度差,态密度,density,states,DOS,系列性,化学气相沉积,chemical,vapor,deposition,WC,原子间,弱相互作用,吸附能力,价电子结构,共价键,脱氢反应,种过,形核密度,金刚石膜,界面结合强度,第一性原理计算
AB值：
0.302105
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