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MPCVD金刚石薄膜微波功率和沉积压力匹配性研究
文献摘要：
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备的高质量金刚石在很多领域均有广泛应用前景.本研究采用9 kW微波功率,分别在13 kPa、14 kPa、15.5 kPa、17 kPa的腔室压力下进行薄膜沉积实验,发现在15.5 kPa、17 kPa的腔室压力下沉积的薄膜在中心区域出现异常生长情况,具体表现为中心存在明显的阶梯式凸起.为揭示薄膜中心出现异常沉积的原因,使用SEM和Raman分析薄膜表面形貌和质量,通过数值模拟进行沉积过程建模计算和分析功率密度和流场分布.结果表明在相同功率下,提高腔室压力,压缩等离子体,因平均自由程较短,扩散能力不足,将导致衬底中心区域比边缘区域更易密集生长,金刚石薄膜中心区域出现明显的阶梯.同时,薄膜整体的生长速率、均匀性、质量均会在超过压力极值后降低.
文献关键词：
金刚石薄膜;MPCVD;沉积压力;微波功率;均匀性;数值模拟
中图分类号：
作者姓名：
张帅;安康;邵思武;黄亚博;杨志亮;陈良贤;魏俊俊;刘金龙;郑宇亭;李成明
作者机构：
北京科技大学新材料技术研究院,北京 100083;北京科技大学顺德研究生院,佛山 528399
文献出处：
引用格式：
[1]张帅;安康;邵思武;黄亚博;杨志亮;陈良贤;魏俊俊;刘金龙;郑宇亭;李成明-.MPCVD金刚石薄膜微波功率和沉积压力匹配性研究)[J].人工晶体学报,2022(05):910-919
A类：
B类：
MPCVD,金刚石薄膜,微波功率,沉积压力,匹配性研究,微波等离子体化学气相沉积,kW,kPa,腔室,室压,薄膜沉积,中心区,出现异常,生长情况,心存,阶梯式,凸起,Raman,表面形貌,沉积过程,过程建模,建模计算,功率密度,流场分布,高腔,平均自由程,扩散能力,衬底,边缘区域,生长速率,压力极值
AB值：
0.325658
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