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原子级控制的约瑟夫森结中Al2O3势垒层制备工艺
文献摘要：
传统热氧化方式制备约瑟夫森结中AlOX势垒层是将高纯度氧气扩散到Al表面进行,但该方式制备的势垒层氧化不完全,厚度难以精准控制.本文采用原子层沉积方式在金属Ti表面逐层生长Al2O3势垒层,并制备出三明治结构的Ti/Al2O3/Ti约瑟夫森结.通过调节Al2O3势垒层的沉积厚度和约瑟夫森结的面积研究了其相应的微观结构及电学性质.实验结果表明,原子层沉积方式生长的单层Al2O3薄膜厚度约为1.17? (1? =10–10 m),达到原子级控制势垒层厚度,通过调节势垒层厚度实现了对结室温电阻值的控制,并通过优化结面积获得了室温电阻均匀性良好的约瑟夫森结.
文献关键词：
原子层沉积;Al2O3势垒层;约瑟夫森结;室温电阻
中图分类号：
作者姓名：
李中祥;王淑亚;黄自强;王晨;穆清
作者机构：
郑州大学国家超级计算郑州中心,郑州 450001;郑州大学计算机与人工智能学院,郑州 450001;数学工程与先进计算国家重点实验室,郑州 450001;复旦大学微电子学院,上海 200433;上海集成电路制造创新中心,上海 200433
文献出处：
引用格式：
[1]李中祥;王淑亚;黄自强;王晨;穆清-.原子级控制的约瑟夫森结中Al2O3势垒层制备工艺)[J].物理学报,2022(21):344-349
A类：
AlOX
B类：
原子级,约瑟夫森结,Al2O3,势垒,制备工艺,热氧化,高纯度,氧气扩散,精准控制,原子层沉积,Ti,逐层,三明治结构,沉积厚度,和约,电学性质,薄膜厚度,室温电阻,电阻值
AB值：
0.197374
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