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典型文献
基于摩擦磨损的KDP晶体固结磨料抛光垫优化
文献摘要:
本文通过固结磨料球与KDP晶体对磨的单因素试验探究固结磨料球中反应物种类、磨粒浓度、反应物浓度、基体硬度对摩擦系数、磨痕截面积和磨痕处粗糙度的影响,试验结果表明:KHCO3固结磨料球对磨后磨痕对称性好,磨痕处的粗糙度值低;磨痕截面积随磨粒和反应物浓度的增加而增大,随基体硬度的增大而降低;磨痕处粗糙度随磨粒和反应物浓度的增加先降低后上升,随基体硬度的增大先上升后降低;摩擦系数受磨粒和反应物浓度影响不明显,随基体硬度的增大而降低.选择KHCO3作为反应物,Ⅰ基体,磨粒浓度为基体质量的100%,反应物浓度为15%制备固结磨料球与KDP晶体对磨后的磨痕轮廓对称度好且磨痕处粗糙度值低,以该组分制备固结磨料垫干式抛光KDP晶体,可实现晶体表面粗糙度Sa值为18.50 nm,材料去除率为130 nm/min的高效精密加工.
文献关键词:
KDP晶体;固结磨料垫;晶体加工;干式抛光;摩擦磨损;反应物
作者姓名:
熊光辉;李军;李凯旋;吴成;于宁斌;高秀娟
作者机构:
南京航空航天大学机电学院,南京 210016
文献出处:
引用格式:
[1]熊光辉;李军;李凯旋;吴成;于宁斌;高秀娟-.基于摩擦磨损的KDP晶体固结磨料抛光垫优化)[J].人工晶体学报,2022(02):271-281
A类:
固结磨料抛光垫,固结磨料垫,干式抛光
B类:
摩擦磨损,KDP,单因素试验,试验探究,磨粒,反应物浓度,摩擦系数,磨痕,截面积,KHCO3,粗糙度值,先降,先上,对称度,该组,晶体表面,表面粗糙度,Sa,材料去除率,精密加工,晶体加工
AB值:
0.161633
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