典型文献
超快激光诱导单晶硅瞬态光学性质演化机理
文献摘要：
研究了从亚皮秒到皮秒范围内的不同脉宽和不同能量密度的激光作用下单晶硅材料表面瞬态光学性质的演化规律.这项工作基于考虑了相变潜热的双温方程、载流子数密度模型,通过计算激光辐照过程中的载流子温度、晶格温度和激发态载流子数密度和介电常数,模拟了光子到电子以及电子到声子的能量传递过程,最终得到了单晶硅表面折射率和消光系数的变化结果.有助于揭示亚皮秒到皮秒脉冲宽度范围的超短脉冲激光辐照下,单晶硅材料瞬态光学性质的演化机理.理论结果表明,若单个激光脉冲无法使单晶硅熔化,则不同的激光能量密度和不同的激光脉宽对最小折射率的影响非常有限,在0.3～0.4 J/cm2的激光能量密度范围内,每0.01 J/cm2的能量密度改变引起的最小折射率变化率小于0.5％.若单个激光脉冲能使单晶硅熔化,则不同能量密度和不同脉宽的激光对硅表面的折射率和消光系数有不同程度的影响.该研究结果可为基于超短脉冲激光的单晶硅材料加工和表面改性提供一定的理论指导.
文献关键词：
光学性质;相变;单晶硅;载流子数密度
中图分类号：
作者姓名：
廖小杰;林素颖;韩冰
作者机构：
南京理工大学电子工程与光电技术学院,江苏南京210094
文献出处：
引用格式：
[1]廖小杰;林素颖;韩冰-.超快激光诱导单晶硅瞬态光学性质演化机理)[J].红外与激光工程,2022(02):109-117
A类：
载流子数密度
B类：
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AB值：
0.249774
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