典型文献
HL-2A装置实时在线硅化壁处理系统
文献摘要：
为了实时控制等离子体杂质以获得良好的等离子体品质,在HL-2A装置上搭建了实时在线硅化壁处理系统,以开展实时在线硅化实验研究.系统采用压电晶体阀控制送气流量,并由HL-2A中控系统时序作为阀门控制的触发信号.在偏滤器位形和孔栏位形放电条件下开展了初步的实时在线硅化实验,研究不同硅化气体注入参数对不同位形等离子体放电参数的影响.实验结果表明,硅化气体注入后等离子体线平均密度整体增加;而D、SiV辐射强度以及等离子体总热辐射功率只在注入期间增加,随后基本恢复到本底水平.高幅值短脉冲注入对等离子体参数的扰动比低幅值长脉冲明显,因此在线硅化实验宜采用低幅值长脉冲的形式开展.由环向Dα诊断系统对硅化气体在环向的镀膜范围进行了大致评估,结果表明单个注入口的镀膜范围有限,需要适当增加送气口来实现均匀镀膜.
文献关键词：
实时在线硅化;HL-2A等离子体放电;送气脉冲;光谱诊断
中图分类号：
作者姓名：
黄向玫;高霄燕;胡毅;马会聪;崔成和;周军
作者机构：
核工业西南物理研究院 成都610025
文献出处：
引用格式：
[1]黄向玫;高霄燕;胡毅;马会聪;崔成和;周军-.HL-2A装置实时在线硅化壁处理系统)[J].真空科学与技术学报,2022(09):690-697
A类：
实时在线硅化,SiV,送气脉冲
B类：
HL,2A,处理系统,实时控制,化实验,压电晶体,阀控,中控系统,阀门控制,发信号,偏滤器,栏位,化气,注入参数,等离子体放电,放电参数,辐射强度,体总,热辐射,辐射功率,本底,底水,短脉冲,脉冲注入,等离子体参数,长脉冲,诊断系统,镀膜,加送,气口,光谱诊断
AB值：
0.295582
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