典型文献
基于边缘光抑制技术的双光束激光直写纳米光刻系统
文献摘要：
利用边缘光抑制技术,设计并研制了一套双光束激光三维直写光刻系统.该系统含有高速扫描振镜和三维纳米压电平台两组扫描机构,可以根据不同加工需求完成多种扫描模式下的微纳结构制造.分析了光刻光束中激发光与抑制光的能量变化对加工精度的影响,通过对光刻光束能量的精确控制,实现了基板表面最小线宽为64 nm的均匀线条和线宽为30 nm的悬浮线的稳定加工,加工结构的线宽变化符合理论预期.该系统在进行实用器件加工时,最高加工产率可达到0.6 mm2/min.使用该系统加工制造了多种微纳结构,证实了其具备加工大深宽比周期结构、复杂曲线结构和不规则三维结构的能力.
文献关键词：
激光技术;光学制造;受激发射损耗;激光直写;微纳光学器件
中图分类号：
作者姓名：
周国尊;何敏菲;杨臻壵;曹春;谢飞;曹耀宇;匡翠方;刘旭
作者机构：
浙江大学光电科学与工程学院现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州310027;之江实验室超级感知研究中心,浙江杭州310023;暨南大学光子技术研究院广东省光纤传感与通信技术重点实验室,广东广州510000
文献出处：
引用格式：
[1]周国尊;何敏菲;杨臻壵;曹春;谢飞;曹耀宇;匡翠方;刘旭-.基于边缘光抑制技术的双光束激光直写纳米光刻系统)[J].中国激光,2022(02):1-11
A类：
B类：
光抑制,抑制技术,双光束,激光直写,纳米光刻,扫描振镜,维纳,压电,电平,扫描机构,扫描模式,微纳结构,结构制造,能量变化,加工精度,精确控制,基板,线宽,均匀线,线条,用器,工时,高加,mm2,加工制造,工大,大深宽比,周期结构,复杂曲线,线结,三维结构,激光技术,光学制造,受激发射损耗,微纳光学器件
AB值：
0.458744
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