典型文献
高功率脉冲磁控溅射仿真技术研究进展
文献摘要：
磁控溅射技术广泛用于制备多种功能涂层/薄膜材料,随着材料加工的精密化和功能器件的微型化,其已成为工业生产中必要环节.磁控溅射的发生基于等离子体放电,但由于等离子体负载的非线性和不稳定性,试验研究相对困难,促使其仿真技术在过去的几十年快速发展,并逐渐成为新型真空涂层装备开发和工艺验证重要且高效的手段.尤其是随着高离化磁控溅射等新技术的提出,等离子体的不确定性加强,检测越来越难,使仿真技术得到进一步的发展和推进.针对高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术,对近年来等离子体仿真技术研究进展及其在HiPIMS放电机理和等离子体特性方面的应用进行综述.以多种等离子体仿真模型为切入点,分别介绍检验电子Monte Carlo模型、流体模型、粒子网格/蒙特卡洛(PIC/MCC)模型、参数路径模型以及整体模型等仿真模型的原理、优缺点及其在HiPIMS技术研究中的贡献和不足.随着等离子体放电技术的进步,等离子体特性越来越复杂,等离子体仿真技术也相应地向更高维度、精度和自由度的方向不断升级,最后总结等离子体仿真技术的研究方向,并对其发展及其对HiPIMS可能的推动作用进行展望.
文献关键词：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS);仿真技术;高精度;高强度放电;等离子体特性
中图分类号：
作者姓名：
崔岁寒;郭宇翔;陈秋皓;吴忠振
作者机构：
北京大学深圳研究生院新材料学院 深圳 518055
文献出处：
引用格式：
[1]崔岁寒;郭宇翔;陈秋皓;吴忠振-.高功率脉冲磁控溅射仿真技术研究进展)[J].中国表面工程,2022(05):23-41
A类：
高强度放电
B类：
高功率脉冲磁控溅射,仿真技术,磁控溅射技术,多种功能,功能涂层,薄膜材料,材料加工,精密化,功能器件,微型化,必要环节,等离子体放电,工艺验证,离化,HiPIMS,等离子体仿真,放电机理,等离子体特性,别介,验电,Monte,Carlo,流体模型,子网,蒙特卡洛,PIC,MCC,数路,路径模型,整体模型,高维度
AB值：
0.259472
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