典型文献
准分子激光光刻光源关键技术及应用
文献摘要：
准分子激光光源在光刻、工业制造、医疗和科研领域都有广泛的应用,特别是其波长、线宽、能量与剂量等指标在光刻领域有很大的优势,可以为光刻机带来更小的图像分辨率和更均匀的曝光图形.现阶段准分子激光器已用于7 nm光刻工艺,并日趋完善,带来更低的运营成本、更高的产率和产量,从而推动整个半导体制造产业的发展.首先简单介绍了准分子激光原理,回顾了准分子激光的发展历史,调研了准分子激光在光刻上的应用现状,及国外准分子光刻光源的主流机型,继而重点阐述了部分应用在光刻中的准分子激光器的关键技术,并展望了准分子激光在光刻及集成电路制造其他环节应用的未来趋势,为我国准分子激光的自主可控发展提供有益借鉴.
文献关键词：
光学设计与制造;准分子激光;光刻;能量与剂量;中心波长与线宽
中图分类号：
作者姓名：
江锐
作者机构：
中国科学院北京微电子研究所光电技术研发中心,北京,100029;北京科益虹源光电技术有限公司,北京,100176
文献出处：
引用格式：
[1]江锐-.准分子激光光刻光源关键技术及应用)[J].激光与光电子学进展,2022(09):327-344
A类：
能量与剂量,中心波长与线宽
B类：
技术及应用,激光光源,工业制造,科研领域,光刻机,图像分辨率,曝光,准分子激光器,已用,光刻工艺,日趋完善,运营成本,半导体制造,制造产业,激光原理,机型,集成电路制造,未来趋势,自主可控,光学设计与制造
AB值：
0.23
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