典型文献
硅衬底化学机械抛光液的循环使用性能
文献摘要：
采用8％(质量分数,下同)有机碱A和3％有机碱B作为抛光液的复配pH调节剂对硅衬底进行化学机械抛光.研究了2种有机碱单独使用或复配使用时对抛光速率和抛光表面质量的影响.结果表明,当2种有机碱复配时,硅衬底的平均抛光速率达到1.04μm/min,同时可获得低表面粗糙度(Ra=0.621 nm)和无划痕的抛光表面.该抛光液在循环使用过程中表现出良好的稳定性,循环使用10次后抛光表面质量基本无变化,但抛光速率略降,主要与抛光液pH降低、黏度增大以及硅溶胶颗粒团聚有关.
文献关键词：
化学机械抛光;硅衬底;pH调节剂;有机碱;抛光速率;表面粗糙度;循环使用
中图分类号：
作者姓名：
陶琴;王振扬;王同庆
作者机构：
清华大学摩擦学国家重点实验室,北京 100084
文献出处：
引用格式：
[1]陶琴;王振扬;王同庆-.硅衬底化学机械抛光液的循环使用性能)[J].电镀与涂饰,2022(07):480-485
A类：
B类：
硅衬底,化学机械抛光,抛光液,循环使用,使用性能,下同,有机碱,调节剂,复配使用,抛光速率,光表,表面质量,表面粗糙度,Ra,划痕,本无,硅溶胶,颗粒团聚,聚有
AB值：
0.222629
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