典型文献
红外器件钝化膜专用磁控溅射系统研制及验证
文献摘要：
为了探讨红外器件钝化膜工艺专用磁控溅射系统的设计,通过分析红外器件钝化膜工艺特性,采用多腔群集式结构、多梯度真空等设计优化了专用磁控溅射系统,实现了8英寸范围内高均匀性薄膜沉积和基片可旋转上置可靠传输,其性能稳定可靠.
文献关键词：
红外器件;钝化膜;磁控溅射;多腔群集式;高均匀性
中图分类号：
作者姓名：
佘鹏程;龚俊;黄也;罗超;范江华
作者机构：
中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南 长沙410111
文献出处：
引用格式：
[1]佘鹏程;龚俊;黄也;罗超;范江华-.红外器件钝化膜专用磁控溅射系统研制及验证)[J].技术与市场,2022(11):39-40
A类：
多腔群集式
B类：
红外器件,钝化膜,磁控溅射,系统研制,膜工艺,艺专,工艺特性,式结构,英寸,高均匀性,薄膜沉积,基片,可旋转,转上,可靠传输
AB值：
0.292999
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