典型文献
氧分压对Mn-Co-Ni-O纳米结构生长的影响
文献摘要：
在脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)法生长氧化物纳米材料的过程中,环境中的氧气对氧化物纳米结构的形成起着至关重要的作用.在溅射了Au纳米层的Si(111)衬底上,采用PLD法在不同氧分压下制备了Mn-Co-Ni-O纳米结构,并用X射线衍射仪(X-ray diffractometer,XRD)和场发射扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)表征了Mn-Co-Ni-O的结构特性和表面形貌.研究发现生长温度为750℃的Mn-Co-Ni-O微观结构与氧分压密切相关.在较低的氧分压环境下(1 Pa和5 Pa),Si衬底上生长的Mn-Co-Ni-O纳米锥结构是由Au催化的气–液–固(vapor-liquid-solid,VLS)生长机制控制.当氧分压增加到15 Pa,Mn-Co-Ni-O纳米结构的形态从纳米锥向纳米线转变,该过程是由VLS和气–固(vapor-solid,VS)生长机制共同作用.深入研究Mn-Co-Ni-O纳米结构的生长机制为获得更多的纳米线提供了理论基础.
文献关键词：
晶体生长;Mn-Co-Ni-O纳米结构;氧分压;生长机制
中图分类号：
作者姓名：
郁银;刘芳;李硕
作者机构：
上海理工大学 材料与化学学院,上海 200093
文献出处：
引用格式：
[1]郁银;刘芳;李硕-.氧分压对Mn-Co-Ni-O纳米结构生长的影响)[J].有色金属材料与工程,2022(05):36-41
A类：
B类：
氧分压,Mn,Co,纳米结构,脉冲激光沉积,pulsed,laser,deposition,PLD,纳米材料,溅射,Au,Si,衬底,ray,diffractometer,场发射扫描电子显微镜,scanning,electron,microscope,结构特性,表面形貌,Pa,上生,vapor,liquid,solid,VLS,生长机制,纳米线,VS,晶体生长
AB值：
0.31576
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