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基于流体动力学的小口径磁流变抛光过程机制分析方法
文献摘要：
磁流变抛光技术是在光学发展中为满足光学元件加工精度的要求,而衍生出的一种新型精密抛光技术.通过对磁流变抛光技术原理的研究提出其核心技术的关键因素.根据核心技术的影响因素设置问题和工艺参数,结合流体动力学的研究方法和理论,分析磁流变液密度、流速对磁流变抛光技术工艺加工的质量和效率的影响,并使用有限元分析软件对抛光过程进行仿真.对磁流变抛光过程抛光区域进行局部模拟仿真分析,并开展交叉参数进行验证.将不同密度的磁流变液分别设置为相同状态下的空气和水,并对初始速度进行对照实验验证.发现了磁流变液的速度、压强和磁流变液的密度这几个工艺参数之间的相互作用机制与内在联系.
文献关键词：
磁流变抛光;小口径光学原件;流体动力学;工艺参数
中图分类号：
作者姓名：
杨航;周俊;张云飞;黄文;何建国
作者机构：
遵义师范学院工学院,贵州 遵义 563006;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川 绵阳 621900
文献出处：
引用格式：
[1]杨航;周俊;张云飞;黄文;何建国-.基于流体动力学的小口径磁流变抛光过程机制分析方法)[J].科技与创新,2022(09):61-64
A类：
小口径光学原件
B类：
流体动力学,磁流变抛光,光过,过程机制,机制分析,抛光技术,光学元件加工,加工精度,技术原理,设置问题,合流,磁流变液,技术工艺,工艺加工,质量和效率,有限元分析软件,抛光区域,模拟仿真,不同密度,初始速度,对照实验,相互作用机制
AB值：
0.21402
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