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等离子体净化工艺对覆膜阴极性能的影响
文献摘要：
覆膜阴极因其优异的性能在很多领域具有广泛的应用.本文介绍了覆锇膜阴极预处理过程中增加气体辉光放电环节,实现等离子体净化阴极表面的工艺.通过二极管形式测试,发现等离子体净化使得覆锇膜阴极电子发射性能有大幅提升,对比了不同气体类型和放电时长的处理对阴极发射改善的差异,结果表明,氙气放电持续20 min可以达到较好的净化效果,继续增加放电时间发射提升不明显.本研究为真空电子器件的洁净制备提供了参考依据.
文献关键词：
覆膜阴极;等离子体净化;电子发射
中图分类号：
作者姓名：
张晓波;郝广辉;张珂
作者机构：
北京真空电子技术研究所,北京100015
文献出处：
引用格式：
[1]张晓波;郝广辉;张珂-.等离子体净化工艺对覆膜阴极性能的影响)[J].真空电子技术,2022(06):82-87,103
A类：
等离子体净化,覆膜阴极,阴极预处理
B类：
净化工艺,加气,辉光放电,二极管,电子发射,不同气体,气体类型,对阴极,氙气,净化效果,加放,真空电子器件,洁净,净制
AB值：
0.257842
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