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低气压射频等离子体的探针诊断方法
文献摘要：
在半导体芯片制造工艺中,约1/3道工序采用等离子体技术,例如材料刻蚀和薄膜沉积等.因此对射频等离子体的基础物理过程的理论和模拟及实验研究具有重要意义.在理解等离子体的复杂物理过程、验证理论模型与数值模拟结果的正确性方面,实验诊断具有重要作用.总结了射频等离子体中常用的探针诊断方法及其最新研究进展,包括朗缪尔探针、双探针、微波共振探针以及磁探针,重点介绍了这些探针的结构、特点及典型的测量结果.
文献关键词：
射频等离子体;探针诊断;低气压
中图分类号：
作者姓名：
刘永新;张莹莹
作者机构：
大连理工大学 物理学院 基础物理国家级实验教学示范中心,辽宁 大连 116024
文献出处：
引用格式：
[1]刘永新;张莹莹-.低气压射频等离子体的探针诊断方法)[J].物理实验,2022(03):1-9
A类：
B类：
低气压,射频等离子体,探针诊断,半导体芯片,芯片制造,制造工艺,道工序,等离子体技术,刻蚀,薄膜沉积,对射,基础物理,物理过程,杂物,实验诊断,最新研究进展,朗缪尔探针,磁探针
AB值：
0.350126
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