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聚乙烯基咔唑共价接枝还原氧化石墨烯的制备及其宽带光限幅性能
文献摘要：
用表面带负电荷的还原氧化石墨烯(RGO)作为阴离子聚合引发剂,在RGO表面使N-乙烯基咔唑(NVK)原位聚合,生成可溶性聚乙烯基咔唑(PVK)共价功能化的RGO非线性光学材料(RGO-PVK).采用红外光谱、X光电子能谱和紫外-可见吸收光谱等对RGO-PVK进行了表征.将RGO-PVK嵌埋在非光学活性的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中制备了具有良好光学性能的RGO-PVK/PMMA薄膜,并利用开孔Z-扫描技术研究了RGO、RGO-PVK、退火处理的RGO-PVK薄膜在532、1064 nm激光辐照下的非线性光学(NLO)和光限幅(OL)性能.结果表明:与RGO相比,PVK在RGO表面的共价键合显著增强了材料的宽带NLO性能和OL效应.与没有经过退火处理的RGO-PVK/PMMA薄膜相比,退火后的RGO-PVK/PMMA薄膜展现出更加优良的NLO性能.在532、1064 nm的激光激发下,退火后的RGO-PVK/PMMA薄膜的非线性吸收系数(βeff)分别为306.17、350.32 cm/GW,相应的光限幅阈值分别为0.37、0.31 GW/cm2.
文献关键词：
还原氧化石墨烯;共价接枝;聚乙烯基咔唑;非线性光学;光限幅
中图分类号：
作者姓名：
沈希彬;白婷;车强;陈彧
作者机构：
华东理工大学化学与分子工程学院,教育部结构可控先进功能材料及其制备重点实验室,上海 200237
文献出处：
引用格式：
[1]沈希彬;白婷;车强;陈彧-.聚乙烯基咔唑共价接枝还原氧化石墨烯的制备及其宽带光限幅性能)[J].功能高分子学报,2022(05):425-434
A类：
聚乙烯基咔唑,NVK
B类：
共价接枝,还原氧化石墨烯,宽带,光限幅,面带,负电荷,RGO,阴离子聚合,引发剂,原位聚合,PVK,共价功能化,非线性光学材料,光电子能谱,吸收光谱,光学活性,聚甲基丙烯酸甲酯,PMMA,光学性能,开孔,扫描技术,退火处理,激光辐照,照下,NLO,OL,共价键合,光激发,发下,非线性吸收,线性吸收系数,eff,GW
AB值：
0.217344
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