典型文献
基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅
文献摘要：
为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性,以降低材料成本和传输损耗,基于相位掩模板法,在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证.建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程,分析光场分布对光纤布喇格光栅(FBG)中心波长和反射率的影响;采用传输矩阵法分析相位掩模板长度、平均折射率变化对FBG反射率和3dB带宽的影响,为WFBG刻制提供理论依据.采用248nm紫外准分子激光器在常规单模光纤上刻制WFBG,分析相位掩模板长度、曝光能量、曝光频率,曝光次数对WFBG中心波长、反射率和3dB带宽的影响,制备出反射率和3dB带宽分别约为0.0016,0.10nm和0.00006,0.34nm两种窄宽的WFBG.结果表明,基于相位掩模板法由紫外准分子激光对常规单模光纤多脉冲曝光,能够稳定刻制WFBG.该研究对WFBG制备的材料选型提供了参考.
文献关键词：
光纤光学;弱反射光纤布喇格光栅;相位掩模板;单模光纤;衍射光场
中图分类号：
作者姓名：
顾宏灿;姚高飞;黄俊斌;丁朋
作者机构：
海军工程大学 兵器工程学院,武汉430033
文献出处：
引用格式：
[1]顾宏灿;姚高飞;黄俊斌;丁朋-.基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅)[J].激光技术,2022(02):149-154
A类：
弱反射光纤布喇格光栅,WFBG,248nm,34nm
B类：
相位掩模板,光纤制备,反射光栅,单模光纤,光纤光栅,材料成本,传输损耗,模板法,刻制,板刻,光场分布,中心波长,反射率,传输矩阵法,折射率变化,3dB,准分子激光器,曝光能量,光频,10nm,多脉冲,材料选型,光纤光学,衍射光场
AB值：
0.191556
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