典型文献
基于等离子体合成射流的后台阶流动控制
文献摘要：
为实现对后台阶流动的控制,采用等离子体唯象模型,通过数值模拟的方法,将等离子体设置在台阶竖直壁面上的双开口方腔中构成合成射流,研究其对后台阶流动的控制.结果表明:无论是上部开口吸气、下部开口吹气还是上部开口吹气、下部开口吸气都能将主流再附点的位置提前.吸气效应能够将分离区流体吸入,减小分离区的强度,吹气效应能够为分离的主流注入动量,加快主流的再附,随着激励强度的增强,控制效果也得到增强.当将等离子体设置在方腔的上部,激励电压为5 kV,激励频率为6 kHz,并在上部开口吸气,下部开口吹气时,分离区尺度最小、控制效果最佳,相对基态工况可将再附点前移52.9％.
文献关键词：
后台阶流动;流动控制;等离子体合成射流;再附点位置;数值模拟
中图分类号：
作者姓名：
王泽阳;王建明;王怡菲
作者机构：
沈阳航空航天大学航空发动机学院辽宁省航空推进系统先进测试技术重点实验室,辽宁沈阳110136
文献出处：
引用格式：
[1]王泽阳;王建明;王怡菲-.基于等离子体合成射流的后台阶流动控制)[J].现代机械,2022(06):6-10
A类：
后台阶流动,再附点位置
B类：
等离子体合成射流,流动控制,唯象模型,竖直,壁面,双开,方腔,吸气,吹气,分离区,吸入,流注,激励强度,激励电压,kV,激励频率,kHz,基态,前移
AB值：
0.204752
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