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硼氢化钠/焦亚硫酸钠还原体系用于染料剥色的机理分析
文献摘要：
分析硼氢化钠/焦亚硫酸钠脱色体系的基本原理.结果显示,硼氢化钠/焦亚硫酸钠脱色体系混合后产生的活性物质(高能态[H])具有极强的还原性,可作用于染料的发色基团,能够在短时间内对染料进行还原脱色.采用紫外-可见光谱和FT-IR光谱对脱色前后的染料结构进行分析.结果表明,脱色后偶氮双键共轭发色体系被破坏,核磁共振氢谱也表明染料的偶氮键被破坏,断裂生成两分子伯氨基(—NH2),而染料其他位置结构未发生明显改变.
文献关键词：
硼氢化钠;焦亚硫酸钠;还原体系;剥色;机理
中图分类号：
作者姓名：
陈益平;赵瑞芝;汪吉艮;王祥荣
作者机构：
苏州大学纺织与服装工程学院,江苏苏州 215123;江苏大生集团有限公司,江苏南通 226005
文献出处：
引用格式：
[1]陈益平;赵瑞芝;汪吉艮;王祥荣-.硼氢化钠/焦亚硫酸钠还原体系用于染料剥色的机理分析)[J].印染助剂,2022(04):20-23
A类：
B类：
硼氢化钠,焦亚硫酸钠,钠还原,还原体系,剥色,机理分析,脱色,活性物质,高能态,还原性,基团,可见光谱,FT,染料结构,偶氮,双键,共轭,核磁共振氢谱,两分,NH2
AB值：
0.254315
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