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聚天门冬氨酸酯基聚氨酯-脲丙烯酸酯的制备及性能研究
文献摘要：
以异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、丙烯酸羟乙酯(HEA)以及3种不同主链结构的聚天门冬氨酸酯(PAE)为原料,制备了 3种基于PAE的聚氨酯-脲丙烯酸酯低聚物.通过傅立叶变换红外光谱、核磁共振氢谱对其结构进行了表征;研究了由这些低聚物所形成的UV固化涂层的机械性能,讨论了低聚物化学结构对涂层性能的影响.结果表明:以含双脂环结构的PAE制得的低聚物赋予了固化涂层较高的拉伸强度(48.34 MPa)以及铅笔硬度(3H);而以含聚醚链段的PAE制备的低聚物赋予了固化涂层良好的耐冲击性(70cm)以及附着力(1.95 MPa).因此,通过对低聚物的分子结构进行调整,可以设计出综合性能优异的UV光固化涂层.
文献关键词：
光固化;聚天门冬氨酸酯;聚氨酯-脲丙烯酸酯
中图分类号：
作者姓名：
吕凯;童杰祥;孙冠卿;刘仁
作者机构：
江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122
文献出处：
引用格式：
[1]吕凯;童杰祥;孙冠卿;刘仁-.聚天门冬氨酸酯基聚氨酯-脲丙烯酸酯的制备及性能研究)[J].涂料工业,2022(01):9-15
A类：
B类：
聚天门冬氨酸酯,酯基,聚氨酯,丙烯酸酯,制备及性能,异佛尔酮二异氰酸酯,IPDI,丙烯酸羟乙酯,HEA,主链,链结构,PAE,低聚物,傅立叶变换红外光谱,核磁共振氢谱,UV,机械性能,化学结构,涂层性能,脂环结构,拉伸强度,铅笔硬度,3H,聚醚,链段,耐冲击性,70cm,附着力,分子结构,光固化
AB值：
0.311217
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