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基于光子纳米射流制备亚微米图案
文献摘要：
光子纳米射流由于其具有克服衍射极限的处理能力,在激光加工、纳米光刻、光学高密度存储、超分辨率显微等领域有着广泛的应用.本文通过将静态微球转变为运动状态,在激光同步辐照下,重叠烧蚀的坑在ITO基板上形成图形化的纳米凹槽.由此,光子纳米射流从"点"加工扩展到"线"加工.所制备的纳米沟槽具有良好的连续性和一致性.此外,沟槽的尺寸形貌可以通过调控微球直径和刻蚀速度来实现.最后,通过在ITO玻璃衬底上刻蚀矢量图,证明了该方法在微纳制造方面的优势和潜力.此方法将在半导体材料、传感器、微流控器件、表面增强拉曼散射(SERS)、生物医学、纳米科学和纳米工程等领域发挥重要作用.
文献关键词：
光子纳米射流;纳米沟槽;同步辐照;纳米工程
中图分类号：
作者姓名：
周壮壮;ALI Hassan;侯智善;薛伟;曹宇
作者机构：
文献出处：
引用格式：
[1]周壮壮;ALI Hassan;侯智善;薛伟;曹宇-.基于光子纳米射流制备亚微米图案)[J].中南大学学报（英文版）,2022(10):3323-3334
A类：
光子纳米射流,同步辐照,纳米凹槽,纳米沟槽
B类：
亚微米,图案,衍射极限,处理能力,激光加工,纳米光刻,超分辨率,微球,运动状态,激光同步,照下,烧蚀,ITO,基板,成图,图形化,刻蚀,衬底,矢量图,微纳制造,半导体材料,微流控,表面增强拉曼散射,SERS,纳米工程
AB值：
0.301095
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